Presentation Information
[10a-PA4-23]Fabrication of Thin Diamond (111) Films via Ni-Assisted Thermochemical Etching
〇Shuta Niimi1, Kazuki Kobayashi1,2, Kimiyoshi Ichikawa1,2, Satoshi Yamasaki1,2, Takao Inokuma1,2, Tsubasa Matsumoto1,2, Norio Tokuda1,2,3, Kan Hayashi1,2,3 (1.Kanazawa Univ., 2.ARCDia, 3.KU-FUSION)
Keywords:
Diamond
ダイヤモンドはパワーエレクトロニクスや量子デバイスへの応用が期待されている。近年、薄膜単結晶ダイヤモンドを異種基板へ接合する研究が進む一方、従来の薄膜作製法では加工損傷や結晶欠陥が課題である。そこで本研究では、低損傷加工が期待されるNi中への炭素固溶反応を利用し、ダイヤモンド(111)基板の薄膜化技術を開発した。本発表では、加工異方性、表面形態、欠陥導入を評価し、本手法の有用性を議論する。