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1:30 PM - 1:45 PM JST(4:30 AM - 4:45 AM UTC)

[10p-C212-1]Modulation of Optical Property in SiN films using Ion Implantation Technique

〇Ryota Wada¹, Kazuhiro Kagawa¹, Yuya Uchida¹, Takashi Kuroi¹, Takeshi Matsumoto¹ (1.Nissin Ion Equipment)

Ion implantation,Waveguide,Si photonics

近年、AI普及に伴う消費電力問題からSiフォトニクスが注目されている。その中でも、光の伝搬効率を上げるために導波路やクラッド層の材料を工夫する取り組みが行われている。今回、導波路として期待されるSiN膜にイオン注入を行い、光学特性の変化について調査したので報告する。