[10p-E207-1~12] 22.1 Joint Session M "Phonon Engineering"

4:30 PM - 4:45 PM JST(7:30 AM - 7:45 AM UTC)

[10p-E207-12] Development of Micro-thermoelectric Devices Using Mg₂Si Thin Film

〇(M1)Kaichi Takayama¹, Tatsuya Hayashi¹, Yusuke Kozuka^1,2, Makoto Kashiwagi¹, Takayoshi Shimura¹, Takanobu Watanabe¹ (1.Waseda Univ., 2.NIMS)

Keywords:

thermoelectric generation,semiconductor,Seebeck effect

CMOSプロセスと互換性のあるスパッタリング法を用いて、Mg₂Si薄膜を形成するプロセスを開発した。同プロセスを用い、SOI基板上にMg₂Si薄膜でできた微小熱電発電デバイスを作製し、その電気特性、熱電性能を評価し、結果を報告する。