[10p-E218-1~13] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

2:15 PM - 2:30 PM JST(5:15 AM - 5:30 AM UTC)

[10p-E218-4] Stabilization of the Oxidation Process in Minimal Fab

〇Hiroyoshi Hongoh¹, Shuichi Noda¹, Noriko Miura¹, Shinichi Ikeda¹, Shiro Hara^1,2 (1.AIST, 2.Hundred)

Keywords:

Minimal Fab,Oxidation

ミニマルファブの酸化プロセスは高い制御性がある。酸素導入タイミングの影響を調べるため、酸化条件を変えて実験した結果、ウェハ昇温中にも酸素が存在すると酸化が進行し、待機中だけでも酸化が進行する可能性があることが分かった。また、N₂雰囲気のみでも酸化の進行が確認され、残留酸素や自然酸化などの影響が考えられた。ミニマルファブの酸化は酸素導入条件などの制御による影響があることがわかった。