Presentation Information
[11a-A31-11]Structure and Properties of Amorphous Carbon Films for Advanced Semiconductor Patterning: Insights from Solid-State NMR
〇Toshihiro Kamei1 (1.AIST SFRC)
Keywords:
Amorphous Carbon Film,Hard Mask,Solid-state NMR
先端半導体デバイスの量産プロセスではリソグラフィーにより形成されたレジストパターンを一旦ハードマスクに転写して、デバイス加工を進めていく。PECVDにより製膜されるアモルファスカーボン膜(ACF)は優れたエッチング耐性を有しながら、容易にアッシングできるため、ハードマスク材料として広く用いられている。本研究では、量産用PECVD装置により製膜されたACFを包括的に材料評価した上で、固体高分解能NMR測定を行い、製膜条件による大きな構造的違いを見出したので、これと材料物性との関連について検討した。