[11a-PB3-1~10] 6.1 Ferroelectric thin films

[11a-PB3-8] Growth of cupper thin film on three-dimensional insulator by Mist CVD

〇Isao Takahashi¹, Haruka Sawamizu¹, Shiori Ishikawa², Koki Morimoto² (1.Ritsumeikan Univ., 2.Qualtec Co., Ltd.)

Keywords:

Cupper,Plating,Insulator

従来のめっきでは成膜困難な絶縁体への銅めっき技術について、ミストCVDによる代替を検討している。これまでの成果では、比抵抗が低く、密着性の良い膜が得られているため、本研究では、基板だけでなく、ガラス管の内壁や数十μmのスルーホール内部への銅成膜の検討を行った。