[11p-A24-1~6] 3.6 Laser processing

2:15 PM - 2:30 PM JST(5:15 AM - 5:30 AM UTC)

[11p-A24-2] Formation of Superhydrophilic Silicone Thin Films Using ArF Excimer Laser

〇(D)Yoshimi Shibuta¹, Masayuki Okoshi¹ (1.NDA)

Keywords:

Silicone,ArF excimer laser,Superhydrophilicity thin film

これまで、低フルエンスのArFエキシマレーザーをシリコーンゴムに照射し、シリコーンの主鎖構造を光開裂させ低分子量化したシリコーンが大気中で光蒸発し、対向基板上へ超撥水性ナノ膜を形成する方法を見出した。今回は、高フルエンスのArFエキシマレーザーをシリコーンゴムに照射し、対向基板上に形成する薄膜の表面形態、化学結合状態並びに表面の濡れ性を調べた結果、超親水性を示すシリコーン薄膜形成法を見出したので報告する。