[8a-A13-1~13] 6.3 Oxide electronics

11:30 AM - 11:45 AM JST(2:30 AM - 2:45 AM UTC)

[8a-A13-10] Fabrication and Structural Evaluation of ITO:Al Thin Films by Mist CVD

〇Honoka Endo¹, Yoshihiro Ichinohe¹ (1.Hokkaido Univ. of Sci.)

Keywords:

Mist-CVD,Al2O3,ITO

本研究では、透明電極材料の高性能化とIn使用量低減を目的に、Mist-CVDでAlを導入したITO:Al薄膜を作製した。XRDではAl添加に伴う格子収縮が確認され、EDSでは膜中のAl層が増加した。一方で、検出されたAlの一部は結晶に置換しておらず、アモルファス成分として存在する可能性が示された。