[8a-B11-1~13] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

9:30 AM - 9:45 AM JST(12:30 AM - 12:45 AM UTC)Presentation by Applicant for JSAP Young Scientists Presentation Award

[8a-B11-3] Formation process of antireflection coatings for transparent substrates

〇Yuki Ono¹, Masaki Onishi¹, Leapheng Uon¹, Hiromasa Ohmi¹, Hiroaki Kakiuchi¹ (1.UOsaka)

Keywords:

Anti-reflective coating,High-pressure plasma

Si系化合物薄膜は化学的安定性や高い電気抵抗率を示すため、光学・電子デバイスに広く利用されている。本研究では、ガラスやアクリルなどの透明基材上にHMDSOとポリスチレンラテックス粒子を用いた独自のポーラスSiOx反射防止コーティングプロセスを提案している。本手法によって作成したポーラスSiOx反射防止コーティングの膜構造及び反射防止特性について報告する。