講演情報
[8a-B11-3]Arベース高圧力プラズマ（760～300 Torr）を用いた透明基材用
反射防止コーティングプロセスの開発
〇小野 結己1、大西 将生1、Leapheng Uon1、大参 宏昌1、垣内 弘章1 (1.阪大院工)
キーワード：
反射防止コーティング、高圧プラズマ
Si系化合物薄膜は化学的安定性や高い電気抵抗率を示すため、光学・電子デバイスに広く利用されている。本研究では、ガラスやアクリルなどの透明基材上にHMDSOとポリスチレンラテックス粒子を用いた独自のポーラスSiOx反射防止コーティングプロセスを提案している。本手法によって作成したポーラスSiOx反射防止コーティングの膜構造及び反射防止特性について報告する。