Presentation Information
[8p-E206-10]Suppression of High-Energy Ions from EUV Source Plasmas through Control of the Initial Electron Density
〇(M2)Yasushi Shirai1, Kentaro Tomita1 (1.hokkaido Univ.)
Keywords:
EUV source,Laser-produced plasma,Double-pulse irradiation
EUV光源の高出力化において、高速イオン（デブリ）の低減は重要な課題である。本研究では、メインプラズマの膨張経路に背景プラズマを直交配置する新たな相互作用体系を導入した。ターゲット間距離と照射間隔を能動的に変化させ、メインプラズマが衝突する背景領域の局所密度環境を制御する実験を行った。背景プラズマの初期電子密度制御による、高エネルギーイオンの選択的な遮蔽・抑制効果の検証結果を報告する。