Presentation Information
[9a-C214-11]Study on Triangular Voltage Conditions for the Formation of InP-Based Quantum Dot Films via Electrophoresis and Device Structure of Quantum Dot Light-Emitting Diodes
〇(M2)Yuki Nagase1, Maowei Huang1, Hirotake Kajii1, Natsumi Satoh1, Shintaro Toda2, Masahiko Kondow1 (1.The Univ of Osaka, 2.ULVAC-UOsaka Joint Research Lab. for Future Tech)
Keywords:
quantum dot,light-emitting devices
コロイド状量子ドット(QD)のシェルの外側は絶縁性の配位子で覆われているため、デバイス作製の際QD膜は極薄膜に制御することが求められる。電気泳動堆積法 (EPD)は、貧溶媒に分散した帯電QD粒子が外部電場下で電極表面に泳動・堆積し、直接薄膜を形成する手法であり、電気泳動で作製するQD薄膜は、印加電圧や溶液濃度などの複数の要因に影響を受ける。本研究では、緑色発光InP系QDを用いて、三角波電圧印加電気泳動堆積法(Tw-EPD)によるQD薄膜形成を検討し、Tw-EPDによる量子ドット発光素子のデバイス作製技術を検討した。
