Presentation Information
[9a-E217-2]Enhancing the wettability of molten Ga on MoOx/Si substrates via In incorporation for its application to the growth of GaAs films
〇Ryoji Katsube1, Masaki Hashimoto1, Taiyo Matsunaga1, Noritaka Usami1,2,3 (1.Grad. Eng., Nagoya Univ., 2.IMaSS, Nagoya Univ., 3.InFuS, Nagoya Univ.)
Keywords:
wettability,solution growth,III-V semiconductors
MoOx上におけるIn融液の完全濡れ現象と合金融液における界面偏析現象に着目し,一部に剥離・液滴は見られるもののGa合金融液膜の構築を実現しました.さらにこれを前駆体とするGaAs on Siの製膜を試行しました.
