Presentation Information

2:45 PM - 3:00 PM JST(5:45 AM - 6:00 AM UTC)

[9p-E203-6]Development of a Hybrid Optical-Electronic Lithography Alignment-Free Mask for Biochip Fabrication

〇Mina Sato¹, Mie Tohnishi¹, Akihiro Matsutani¹ (1.Science Tokyo RIM)

Keywords:

Lithography,Alignment-Free

リソグラフィ技術は目的のパターンサイズによって光や電子による露光方式を選択する必要がある．一般的にナノ・マイクロサイズの異なる構造体が混在するデバイスの作製にはフォトマスクを用いた光リソグラフィと電子線リソグラフィを其々別々に実施する必要があり，工程数が多く，精密なアライメントも必要である．そこで本発表では工程数を減らすため，アライメントフリーの光・電子併用リソグラフィ用マスクの開発について発表する．

Back to Session information