[9p-E308-1~15] 8.1 Plasma production and diagnostics

4:00 PM - 4:15 PM JST(7:00 AM - 7:15 AM UTC)

[9p-E308-10] Local control of high-frequency magnetic fields for homogenization of VHF band high-frequency plasma using metamaterials

〇Yukito Nakano¹, Hirotake Taguchi¹, Toshihiro Nakanishi¹, Osamu Sakai¹ (1.Univ. of Shiga Pref.)

Keywords:

metamaterials,plasmas,radio frequency

半導体製造におけるウェハのドライエッチング処理の際に，プラズマ密度がアンテナの形状に依存して空間的に変化することが原因で，ウェハ上に形成される半導体チップの特性が一定にならず，歩留まり率が低下してしまうことが問題になっている．本研究では，設計した金属パターンとして作製したLCR回路素子により構成されるメタマテリアルを用いてプラズマを高密度化する手法を提案する．