[9p-E308-1~15] 8.1 Plasma production and diagnostics

2:30 PM - 2:45 PM JST(5:30 AM - 5:45 AM UTC)

[9p-E308-5] Development of a High-Sensitivity Laser Thomson Scattering System for EUV-Induced Hydrogen Plasma Diagnostics

〇Yuta Sato¹, Syun Ito¹, Rikuto Nagamatsu¹, Daisuke Nakamura¹, Hakaru Mizoguchi¹, Kazuaki Suzuki¹, Kentaro Tomita², Yukihiko Yamagata¹ (1.Kyushu Univ., 2.Hokkaido Univ.)

Keywords:

EUV,Thomson scattering,Hydrogen plasma

EUVリソグラフィ用レーザー生成プラズマ光源では、Snデブリ抑制とミラー保護のため水素ガスが導入され、低温・低密度の水素プラズマが形成される。電子密度・温度の定量評価は重要だが、ミラー近傍は特に低密度で高感度計測を要する。本研究では高感度レーザートムソン散乱計測システムを構築し、初期実証として、水素プラズマで電子密度4.5×10¹⁶ m⁻³、電子温度0.74 eVのスペクトル検出に成功した。