第67回電池討論会
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16:40 〜 17:00
[1C19]
ドライ成膜電極における内部構造・局所電子抵抗・反応分布の複合評価
*代永 彩夏
1
、川内 滋博
1
、トウルソン フィロラ
1
、松永 拓郎
1
、中村 浩
1
、井上 元
2
(1. 株式会社 豊田中央研究所 (日本)、2. 九州大学 (日本))
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キーワード:
ドライ成膜プロセス、電極構造、反応分布
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