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[1C19]ドライ成膜電極における内部構造・局所電子抵抗・反応分布の複合評価

*代永 彩夏1、川内 滋博1、トウルソン フィロラ1、松永 拓郎1、中村 浩1、井上 元2 (1. 株式会社 豊田中央研究所 (日本)、2. 九州大学 (日本))

キーワード:

ドライ成膜プロセス、電極構造、反応分布