講演情報

11:20 〜 11:40

[1E08]ミストCVD法により形成したアモルファス酸化チタン膜の人工SEI機能評価

*何海燕¹、山本孔明¹、小林史弥³、栗原英樹⁴、白井肇^2,3、曽根宏隆²、大野俊典¹ (1. 株式会社天谷製作所 (日本)、2. 埼玉大学理工研 (日本)、3. 神奈川大工研 (日本)、4. 埼玉産業技術総合センター (日本))

ミストCVD、アモルファス酸化チタン、ECフリー