講演情報
[P125]エピタキシャルCr(N,O)薄膜に内在する積層不整の定量評価
*岩崎 悠佑1、中山 忠親1、末松 久幸1、鈴木 常生1 (1. 長岡技術科学大学)
キーワード：
Hard coating、Pulsed Laser Deposition、Chromium nitride、Epitaxial growth、Stacking faults
Cr(N,O)薄膜は積層不整を内在することにより高硬度化を実現した。積層不整の度合いを評価するため、酸素含有量が様々なエピタキシャルCr(N,O)薄膜のD51相をX線回折により評価した。