[S2] ワイドギャップ結晶の材料学と高温プロセッシング 2

16:15 〜 16:55

[S2.8] [基調講演] Naフラックス法を基軸としたGaNウエハの事業化戦略

*森 勇介¹、今西 正幸¹、村上 航介¹、吉村 政志¹、守山 実希²、隅 智亮³、滝野 淳一³、岡山 芳央³ (1. 阪大、2. 豊田合成、3. パナソニック)

キーワード：

Naフラックス法、GaNウエハ

Naフラックス法を基軸としたGaNウエハの事業化戦略