講演情報

14:45 〜 15:00

[268]スパッタリング法によるTi添加α-Fe₂O₃薄膜の作製

*阿部世嗣¹ (1. 電磁研)

無機材料、薄膜、鉄酸化物、ドーピング、電気抵抗率

比較的低濃度のTiを添加した表記の薄膜について検討を行った。その結果、無添加の電気抵抗率は測定範囲を超える高抵抗であるのに対し、Ti濃度の増加と共に減少する傾向を示す。