[P22] 電気化学的水素ローディングを用いたガラス基板を有する磁歪薄膜試料に及ぼす電子線照射の影響評価 | 日本金属学会2021年春期(第168回)講演大会

日本金属学会2021年春期(第168回)講演大会

2021年3月16日〜3月19日オンライン開催(Zoom利用)

2021年3月16日〜3月19日オンライン開催(Zoom利用)

*大野聖海¹、常盤蓮¹、松本睦輝¹、三浦栄一¹、竹田圭佑¹、木村英樹³、松村義人³、西義武^2,3、内田ヘルムート貴大³(1. 東海大工（院生）、2. KISTEC、3. 東海大工)

磁歪薄膜、ガラス基板、内部応力、電子線照射、ヤング率、電気化学的水素ローディング

電子線照射ガラス基板および未照射ガラス基板上にNi膜を成膜し，電気化学的に導入量を厳密に制御した水素が薄膜の内部応力に及ぼす影響と電子線照射条件が及ぼす影響について検討した