セッション詳細
[P]P1~P3
2022年9月20日(火) 13:00 〜 14:30
FITアリーナ
※表示の講演時間には質疑応答時間も含みます。
（質疑応答時間5分、基調講演と招待講演は5～10分）
（質疑応答時間5分、基調講演と招待講演は5～10分）
[P1]ホイスラー化合物Fe1.3Mn1.7Siにおける負の磁気熱量効果
*赤石 幸起1、髙本 翼1、重田 出2、廣井 政彦2、郷地 順3、上床 美也3 (1. 鹿児島大理工（院生）、2. 鹿児島大理工、3. 東大物性研)
[P2]ZnO 薄膜への Ge 添加による光学的・電気的特性の改善
*小林 泰河1、中島 魁星1、山根 治起2、小林 政信1 (1. 千葉工業大学、2. 秋田産業技術センター)
[P3]FePt被覆による高解像度MFMプローブの作製
*渡邉 壯真1、根本 壮弥2、土井 正晶2、嶋 敏之2 (1. 東北学院大工(院生)、2. 東北学院大工)