セッション詳細
[P]P3~P7
2022年3月22日(火) 10:00 〜 11:30
Zoomポスター会場
※表示の講演時間には質疑応答時間も含みます。
（質疑応答時間5分、基調講演と招待講演は5～10分）
（質疑応答時間5分、基調講演と招待講演は5～10分）
[P3]Nd-Fe-B系HDDR磁粉の保磁力劣化に伴う微細組織変化
*倉員 晃基1、赤木 優介3、赤嶺 大志2、板倉 賢2、川上 修平4、和田 梢4、片山 信宏4 (1. 九大総理工（院生）、2. 九大総理工、3. 九大総理工（現：日産自動車）、4. 戸田工業)
[P4]Sm(Fe-Co)-B系薄膜の磁区構造観察
*渡邉 壯真1、森 裕一1、畑中 辰汰朗2、根本 壮弥3、土井 正晶3、嶋 敏之3 (1. 東北学院大工(院生)、2. 東北学院大工(学生)、3. 東北学院大工)
[P5]Auを触媒としたGe薄膜の結晶化と熱処理の昇温速度依存性
*廣瀬 乾1、木村 健二郎1、SUNTHORNPAN Narin1、弓野 健太郎1,2 (1. 芝浦工大、2. 芝浦工大グリーンエレクトロニクス国際研究センター)
[P6]Ag触媒を用いたMIC法による多結晶Ge薄膜の作製と電気特性
*鷲雄 藍子1、弓野 健太郎1,2 (1. 芝浦工業大大学院、2. 芝浦工業大グリーンエレクトロニクス国際研究センター)
[P7]AuSb触媒を用いたGe薄膜の低温結晶化
*守谷 彩乃1、弓野 健太郎1,2 (1. 芝浦工業大学大学院、2. 芝浦工業大学グリーンエレクトロニクス国際研究センター)