講演情報

15:00 〜 16:30

[P174]HfZrO₂アモルファス積層膜の結晶化に及ぼす積層構造の影響

*長井一真¹、髙瀬慶人¹、石丸学²、内田紀行³、右田真司³ (1. 九州工大工(院生)、2. 九州工大工、3. 産総研)

HfO₂、ZrO₂、強誘電性、アモルファス、結晶化

準安定HfZrO₂直方晶は新規強誘電体材料として注目されている。本研究では、非晶質HfO₂とZrO₂を交互に堆積したラミネート膜を作製し、熱処理に伴う構造変化をX線回折および透過電子顕微鏡により調査した。