講演情報
[P203]斜入射スパッタリング法により作製したTiO2薄膜の微細構造に対する基板温度の影響
*陳 宇聡1、井上 泰志2、高井 治3 (1. 千葉工大（院生）、2. 千葉工大（教授）、3. 関東学院大（教授）)
キーワード：
TiO2薄膜、斜入射スパッタリング、基板加熱、光触媒、離散的柱状構造
光触媒反応は表面で起こり，TiO2薄膜の離散的柱状構造を実現できれば，優れた光触媒特性を発揮できる．室温で成膜されたTiO2薄膜は離散的柱状構造が形成されにくい．基板加熱でTiO2薄膜の離散的柱状構造を作製した．