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3:00 PM - 4:30 PM JST(6:00 AM - 7:30 AM UTC)

[P203]Effect of Substrate Temperature on Microstructure of TiO₂ Films Deposited by Glancing-angle Sputtering

*CHEN YUSOU¹, INOUE YASUSHI², TAKAI OSAMU³ (1. Chiba Inst. Technol., 2. Chiba Inst. Technol., 3. Kanto Gakuin Univ.)

TiO₂薄膜,斜入射スパッタリング,基板加熱,光触媒,離散的柱状構造

光触媒反応は表面で起こり，TiO₂薄膜の離散的柱状構造を実現できれば，優れた光触媒特性を発揮できる．室温で成膜されたTiO₂薄膜は離散的柱状構造が形成されにくい．基板加熱でTiO₂薄膜の離散的柱状構造を作製した．