[P] P130~P143　エネルギー関連材料

[P141] ラジカル水素反応性赤外レーザー蒸着法によるSrH₂エピタキシャル膜合成とSrTiO₃基板還元

○河原 幸生¹、青山 颯汰¹、中野 匡規¹、原田 尚之²、大口 裕之¹ (1. 芝浦工大、2. NIMS)

キーワード：

水素化物、金属水素化物薄膜

SrH₂は酸化物を還元することにより、その電気的または磁気的性質を変化させることができる。酸化物の還元には、一般的に粉体の水素化物を用いるが、エピタキシャル薄膜を用いれば、水素化物－酸化物の界面を制御できる。そこで本研究では、SrTiO₃基板上にSrH₂薄膜を合成し、SrTiO₃の還元による金属化に取り組んだ。