[P] P152~P165　電気・電子・光関連材料

[P152] 高圧ねじり加工による高Ge組成SiGe合金の準安定相生成と抵抗率変化

○菅野 愛¹、有田 誠¹、生駒 嘉史¹、荒井 康智² (1. 九州大学大学院、2. JAXA)

キーワード：

HPT、SiGe、準安定相、電気抵抗率変化

高Ge組成のSiGe合金に高圧ねじり(HPT加工)を施した際の、準安定相および電気抵抗率を調査した。XRD測定より、ダイヤモンド相に加えてSi_0.11Ge_0.89ではbc8相が、Si_0.06Ge_0.94ではst12相に対応する回折ピークが観察された。電気抵抗率は、いずれの組成もHPT加工前と比較して減少することがわかった。