講演情報

[16a-A25-8]Ge-on-Siを用いたマイクロブリッジ上の金属薄膜堆積による効果

〇小田島 綾華1、井上 貴裕1、石川 陸1、澤野 憲太郎1 (1.東京都市大学)

キーワード:

半導体、ゲルマニウム、マイクロブリッジ


コメント

コメントの閲覧・投稿にはログインが必要です。ログイン