セッション詳細

[16a-A25-1~10]3.14 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス

2024年9月16日(月) 9:00 〜 11:45
A25 (朱鷺メッセ2F)
庄司 雄哉(東工大)、 相馬 豪(東大)

[16a-A25-1]集積レーザ素子のウェハレベル自動計測

〇堀川 剛1、吉田 俊1、西山 伸彦1,2,3 (1.東工大工、2.東工大研究院、3.PETRA)
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[16a-A25-2]OFDR による Si フォトニクス素子の解析(III)

〇名和 翔太1、鎌田 幹也1、佐藤 翼1、馬場 俊彦1 (1.横国大院工)
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[16a-A25-3]1 × 2 Field Splitter Using Nano-pixel toward Compact Optical Mode Switch

〇(D)Yuzhuang Xie1, Haisong Jiang1, Kiichi Hamamoto1 (1.Kyushu Univ)
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[16a-A25-4]Nano-pixel Region Length Dependency in Polarization Rotator

〇(D)Sara Bruhier1, Haisong Jiang1, Kiichi Hamamoto1 (1.I-EggS, Kyushu Univ.)
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[16a-A25-5]GPUを用いた進化戦略計算によるInP-Siレイヤ間遷移光導波路設計

〇作本 宙彌1、宮武 悠人1、トープラサートポン カシディット1、高木 信一1、竹中 充1 (1.東大院工)
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[16a-A25-6]グレーティングカプラ上への受光器チップの接着実装

〇北 翔太1,2、高 磊3、前神 有里子3、大野 守史3、コン グアンウェイ3、山本 宗継3、山田 浩治3、新家 昭彦1,2、角倉 久史1,2、納富 雅也1,2 (1.NTTナノフォトニクスセンタ、2.NTT物性研、3.産総研)
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[16a-A25-7]超小型パルス波形測定器用二光子吸収アバランシェフォトダイオードアレイ (II) ---自由キャリア吸収損失の低減

〇小山 希1、杉原 興浩1、近藤 圭祐1 (1.宇大院)
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[16a-A25-8]Ge-on-Siを用いたマイクロブリッジ上の金属薄膜堆積による効果

〇小田島 綾華1、井上 貴裕1、石川 陸1、澤野 憲太郎1 (1.東京都市大学)
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[16a-A25-9]最小構造寸法150 nmの高効率なSiファイバカプラの実証

〇田原 直樹1、名和 翔太1、平 陸人1、陶山 実之1、廣谷 圭祐1、前神 有里子2、土澤 泰2、山本 宗継2、山田 浩治2、馬場 俊彦1 (1.横国大院工、2.産総研)
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[16a-A25-10]多モードLD端面結合用界分布変換素子

〇山西 裕也1、井上 純一1、小澤 桂介1、金高 健二2、市橋 宏基3、裏 升吾1 (1.京都工繊大、2.産総研、3.パナソニックホールディングス(株))
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