2024年第85回応用物理学会秋季学術講演会
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16:30 〜 16:45奨励賞エントリー

[16p-C31-13]真空蒸着法によるCuBiI4薄膜の作製と評価

〇小川 航輝1、中村 陸駆1、村田 秀信2、山田 直臣1 (1.中部大院工、2.ファインセラミックスセンター)

キーワード：

CuBiI4、真空蒸着

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