[16p-D63-1~17] CS.9 6.5 表面物理・真空、7.5 原子・分子線およびビーム関連新技術のコードシェア

17:30 〜 17:45

[16p-D63-17] 一段階酸化Loop Aと二段階酸化Loop Bの反応キネティクス: p-Si(001)とn-Si(001)表面の比較

〇津田 泰孝¹、吉越 章隆¹、小川 修一²、髙桑 雄二^1,3 (1.原子力機構、2.日本大学、3.東北大学)

キーワード：

シリコン、酸化、X線光電子分光