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[16p-D63-17]一段階酸化Loop Aと二段階酸化Loop Bの反応キネティクス: p-Si(001)とn-Si(001)表面の比較

〇津田 泰孝1、吉越 章隆1、小川 修一2、髙桑 雄二1,3 (1.原子力機構、2.日本大学、3.東北大学)
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キーワード:

シリコン、酸化、X線光電子分光


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