[16p-P07-1~46] 1 応用物理学一般（ポスター）

[16p-P07-6] マスクレスフォトリソグラフィを用いた微細加工と半導体教育の実践

〇羽渕 仁恵¹、Timothé Foreau²、ゴーシャン ワイ¹、英二 白木¹、民夫 飯田¹ (1.岐阜高専、2.UIT of Blois)

キーワード：

半導体教育、マスクレスフォトリソグラフィ

日本では半導体人材の確保と育成が重要な課題である。岐阜高専において、実践的な半導体教育を行うことを目的として、半導体の前工程のプロセスを学生が実験できるよう環境を整えている。マスクレス露光装置を用いて、微細加工を行なった内容について発表する。ソーダガラスを基板としたクロム膜の上にフォトレジストを塗布した試料を用い、CADで設計したパターンをレジストへの露光し現像を行った。その後クロム膜のウエットエッチングによりレジストを除去し、クロム膜のパターンを形成した。