[17a-C43-1~8] 1.3 新技術・複合新領域

10:45 〜 11:00

[17a-C43-5] サーマルプローブリソグラフィを用いたナノスケール精度描画

〇青木 画奈¹、赤羽 浩一¹ (1.情報通信研究機構)

キーワード：

熱走査プローブリソグラフィ、微細加工

加熱すると昇華する性質のポリマーで基板上に薄膜を作製し、その表面を温度制御可能なプローブで走査すると任意のパターンをナノスケールの精度で描画することができる。同技術を用いて20 nm程度の位置合わせ精度、half pitch 50 nmのline and spaceパターンが得られた。電子線描画法や液浸リソグラフィ法と同レベルの位置合わせ精度・微細度を室温で得られることがこの手法の長所である。