[17p-B2-1~9] 15.7 結晶評価，不純物・結晶欠陥

15:15 〜 15:30

[17p-B2-9] シリコン結晶中の低濃度炭素の測定/第二世代(28)赤外吸収のmiddle, inner phonon band対策 (1)

〇井上 直久¹、奥田 修一¹、川又 修一¹ (1.大阪公大 放射線研究センター)

キーワード：

シリコン結晶、炭素濃度、赤外吸収

赤外吸収のmiddle & inner band対策(1)として、612㎝-1のmiddle phonon対策である590-618㎝-1 middle baselineにより2-3x1014/㎝3を可能にした。またInner band 対策は室温の600-610cm-1 short baselineとシリコンメーカーが70年代から使っている液体窒素温度測定による分離で1013/㎝3まで測れる。