[17p-B6-1~16] 12.4 有機EL・トランジスタ

13:00 〜 13:30

[17p-B6-1] [第22回有機分子・バイオエレクトロニクス分科会　論文賞受賞記念講演] ウェットプロセスによる水蒸気ハイバリア構造

〇硯里 善幸¹ (1.山形大INOEL)

キーワード：

水蒸気バリア、ウェットプロセス、フレキシブルデバイス

フレキシブルデバイスの保護に必要なバリア構造を、低コスト・低炭素化が可能なウェットプロセスで達成した。真空紫外光による光緻密化を利用し、塗布可能な前駆体から常温・窒素下にて緻密な無機膜を形成し、世界最高のバリア性能を達成した。また、デバイス上部へもシロキサンポリマーを用い、デバイス影響が無くバリア形成できている。これらは水蒸気に対し劣化が顕著な有機エレクトロニクスデバイスへの応用が期待される。