講演情報
[17p-C32-9]デバイス応用へ向けたレーザー分子線堆積によるDNA薄膜の作製
〇劉 帥1、劉 博林1、添島 弘太郎1、楊 昱軒1、村田 朋大2、Shen Xuechen2、南 皓輔3、山崎 智彦3、佐藤 知正1、鯉沼 秀臣4、有賀 克彦3,2、松木 伸行1 (1.神奈川大、2.東大院新領域、3.物材機構、4.SCT（株）)
キーワード：
デオキシリボ核酸、レーザー分子線堆積、バイオセンサー
我々は無機・有機材料のハイブリッドな分子層堆積を可能とするレーザー分子線堆積法（LMBD法）を用いてDNAを薄膜化し新たなデバイス応用の実現を目指している．本研究では，レーザー種や照射条件を様々に変化させてDNA薄膜を作製し，諸物性への影響を調べた．その結果，レーザー堆積条件によって結合構造が大きく変化するとともに，これによってDNA膜抵抗率の相対湿度依存性が顕著に変化することがわかった．
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