[18a-A22-1~13] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

11:15 〜 11:30

[18a-A22-9] 酸素雰囲気下での室温 UV 照射による IBO TFT のヒステリシス改善

〇山寺 真理¹、木菱 完太¹、相川 慎也¹ (1.工学院大工)

キーワード：

薄膜トランジスタ、UV処理、ヒステリシス