[18p-A22-1~21] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

19:15 〜 19:30奨励賞エントリー

[18p-A22-21] 半導体積層作製技術を応用した高効率な水分子加熱

〇(M2)大塚 知紀¹、松田 竜一²、渡辺 俊哉²、太田 早紀²、金子 健太郎³ (1.立命館大理工、2.三菱重工業（株）、3.立命館大半導体応用研究センター)

キーワード：

酸化物半導体、多層膜、輻射熱加熱