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[18p-D62-1]Auナノ粒子を内包するSiO2フリースタンディング膜の作製と特性評価

〇久保田 真歩1、一宮 正義2、番 貴彦2、柳澤 淳一2 (1.滋賀県立大院工、2.滋賀県立大工)
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キーワード:

Auナノ粒子、イオン注入、SiO2薄膜

熱酸化膜を有するSi基板にAu-Siイオン照射と大気中熱処理によりSiO2薄膜内にAuナノ粒子を形成した後、基板裏面からSiのエッチングを行ってこのSiO2薄膜のフリースタンディング化を試みた。反射スペクトルにはエッチングの影響は見られなかったが、透過スペクトルではAuナノ粒子による表面プラズモン吸収を示すスペクトルのディップ位置に変化したことから、SiO2薄膜へのエッチングの影響が推測された。

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