講演情報

[18p-P08-16]電子写真プリンテッドエレクトロニクスによるマイクロエレクトロニクス回路の描画

〇押田 陽1、上月 魁人1、ウ チェンイ1、花崎 来希1、松岡 政暁1、イ カンウク1、酒井 正俊1 (1.千葉大院工)
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キーワード:

プリンテッドエレクトロニクス、半導体、集積回路

電子写真ベースのプリンテッドエレクトロニクスによるマイクロエレクトロニクス回路の作製について報告する。線幅10 µmの櫛形S/D電極をAg/Niナノトナーでパターニングした。作製したパターンの元素組成はAgが94.1%、体積抵抗率は0.515µΩ・mであった。さらにAg電極、C8-BTBT半導体層、TMR-P10絶縁体層を成膜、積層することでNOT回路構造を作製した。

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