[19a-P04-1~13] 3.6 レーザープロセシング

[19a-P04-9] レーザードーピングによるCe:YAG，Ce:YAPシンチレータ作製

〇(M1)丸山 祐樹¹、Cadatal-Raduban Marilou^2,3、日比野 孝太¹、西井 一郎²、佐藤 匠²、櫻井 陽子¹、山ノ井 航平²、小野 晋吾¹ (1.名工大、2.阪大レーザー研、3.Massey Univ.)

キーワード：

シンチレータ、レーザードーピング

Ce:YAGおよびCe:YAPは高速で、発光効率に優れたシンチレーション材料である。本研究では、溶媒として純水を用いたトリス（アセチルアセトナート）セリウム(III)水和物水溶液中で、YAPおよびYAG単結晶基板にレーザーを照射した後、アニール処理を施すことで、Ceイオンを発光中心としてドープする手法を見出したので、これについて報告する。