セッション詳細
[19a-P04-1~13]3.6 レーザープロセシング
2024年9月19日(木) 9:30 〜 11:30
P04 (展示ホールA)
[19a-P04-1]レーザー誘起前方転写におけるダブルパルス励起の効果
〇爲本 龍汰1、漕江 駿太1、佐藤 光太朗1、山根 啓作1、戸田 泰則1、尾松 孝茂2,3、森田 隆二1 (1.北大院工、2.千葉大融合理工、3.千葉大分子キラリティー)
[19a-P04-6]フェムト秒レーザ直接描画によるフレキシブル電気化学センサ用3電極の集積化
〇(B)増子 颯斗1、駒津 広和1、佐藤 翔真1、Ilya Tumkin2、Andreas Ostendorf2、溝尻 瑞枝1 (1.長岡技科大、2.ルール大学ボーフム)
[19a-P04-7]液中ピコ秒レーザーパルス照射によるS45C表面への円形微細構造形成
〇(M2)中村 友哉1、山中 正人1、田中 良樹1、吉田 直樹2、劉 暁旭1、樋口 和夫1、前川 覚1、糸魚川 文広1、小野 晋吾1 (1.名工大、2.株式会社ニデック)
[19a-P04-9]レーザードーピングによるCe:YAG,Ce:YAPシンチレータ作製
〇(M1)丸山 祐樹1、Cadatal-Raduban Marilou2,3、日比野 孝太1、西井 一郎2、佐藤 匠2、櫻井 陽子1、山ノ井 航平2、小野 晋吾1 (1.名工大、2.阪大レーザー研、3.Massey Univ.)