[19p-B5-1~16] 15.5 IV族結晶，IV-IV族混晶

14:30 〜 14:45

[19p-B5-7] 分子線エピタキシー法を用いたメチル化ゲルマナン薄膜の形成

〇中山 敦稀¹、松本 一歩¹、柴山 茂久¹、坂下 満男¹、中塚 理^1,2、黒澤 昌志¹ (1.名大院工、2.名大未来研)

キーワード：

二次元材料、ゲルマナン、分子線エピタキシー