[19p-P10-1~6] 16 非晶質・微結晶（ポスター）

[19p-P10-2] ECRスパッタ法により作製したMoO_x薄膜のN₂アニール効果

〇吉田 拓真¹、今井 楓大¹、斎藤 洋司²、小林 康之¹、渡邊 良祐¹ (1.弘前大院理工、2.成蹊大院理工)

キーワード：

シリコン系太陽電池、酸化モリブデン、ヘテロ接合太陽電池

酸化モリブデン(MoO_x)は仕事関数が5 eV程度と大きく、シリコンとヘテロ接合を形成することで接合界面のバンドが曲がり、太陽電池として機能する。本研究ではSi基板上にMoO_xをECRスパッタ法により成膜し、N₂アニールを行うことでMoO_x/Siヘテロ接合太陽電池を作製した。作製した試料の半導体特性、太陽電池特性についてI-V測定、XRD測定、XPS測定を行い評価した。