[20a-A32-1~11] 8.1 プラズマ生成・診断

11:15 〜 11:30

[20a-A32-9] 裏面照射ナノ膜厚金薄膜光電陰極の膜厚最適化

〇大塩 亮太¹、船越 貫太郎¹、八田 章光¹、スクマ ワイユ　フィットリアーニ² (1.高知工科大、2.九大)

キーワード：

ナノ膜厚金薄膜、エキシマランプ、真空

本研究では高真空中で光電子放出電流を測定し、放出電流が最大となる膜厚を調べる。縦横4cm×3cm厚さ2mmの石英ガラスにDCマグネトロンスパッタ法で金を成膜する。中央部の直径20mmの領域は成膜時間を10～25秒で変化させてナノ膜厚の光電陰極とし、周辺部は成膜時間5分で給電用電極を形成する。光電陰極裏面から172nmエキシマランプを照射、光電陰極に電圧を印加して真空側で約1cm離れた接地アノードとの間で電圧電流を測定した。これらの結果から膜厚と吸光度および透過率、光電子放出電流の関係について考察を行う。