[20p-A21-1~11] 23.1 合同セッションN「インフォマティクス応用」

13:45 〜 14:00

[20p-A21-2] SiC溶液成長法における潜在空間を利用した長時間プロセスの最適化

〇坂本 隆直¹、沓掛 健太朗^1,2、原田 俊太^1,2、宇治原 徹^1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)

キーワード：

SiC、機械学習、半導体