[20p-A35-1~9] 3.12 半導体光デバイス

15:45 〜 16:00

[20p-A35-9] プラズマ表面処理を援用した転写プリント集積の検討

〇(M1)立崎 裕真¹、赤星 颯麻¹、藤田 晃成¹、荒川 泰彦²、太田 泰友¹ (1.慶應理工、2.東大ナノ量子)

キーワード：

転写プリント法、プラズマ表面処理

転写プリント法は、複雑な異種材料光集積を自在かつ高品質に実現可能な技術として注目されている。しかし転写先の基板と転写対象との間の接着については簡便に行われている例が多く、プラズマ表面処理による直接転写接合が検討されているものの、その詳細はほとんど明らかになっていない。今回我々はプラズマ表面処理を援用した半導体薄膜の転写プリント集積に取り組み、一定の条件下で接着状態の改善が示唆されたため報告する。