講演情報

[20p-C32-1]高速堆積Cat-CVD窒化Si膜の湿熱環境での屈折率安定性

〇大平 圭介1、Huynh Thi Cam Tu1 (1.北陸先端大)
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キーワード:

窒化シリコン、屈折率、触媒化学気相堆積

Cat-CVDで高速堆積した窒化Si膜の湿熱環境での屈折率安定性を評価した。堆積速度を60 nm/minまで高めた膜においても、20 nm/minの低速で堆積した膜と同様、85 °C、湿度85%RHでの湿熱試験2000時間後の屈折率変化を1%未満に抑えられており、高い屈折率安定性が示された。太陽電池モジュールの高い色調安定性や、ペロブスカイト膜への熱損傷抑制などの効果が期待される。

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